Az ASML még csak most szállítja a High-NA EUV litográfiai berendezéseket, de máris a Hyper-NA opciók vannak terítéken, ugyanis ezek fejlesztése már gőzerővel folyik.
A jelenlegi tervek szerint elsőként az Intel használ majd High-NA EUV levilágítást az Intel 14A node-on, amin a gyártás 2026-nál hamarabb nem kezdődik majd meg,így a High-NA opciók erőteljes terjedése leginkább az aktuális évtized végére tehető majd.
A Hyper-NA EUV litográfiai berendezések bevezetése kapcsán az ASML úgy látja, hogy szállításuk 2030-ban kezdődhet meg, bevetésükre pedig 2032 környékén van esély, tömeges terjedésük viszont még ennél is később várható.
Az egyes berendezések között egyébként a fő különbség a numerikus apertúra mérete. Az EUV esetében ez 0,33, az High-NA opciónál 0,55, míg a Hyper-NA esetében 0,75. Minél nagyobb ez a szám, annál kedvezőbb a kisebb áramkörök levilágításának hatékonysága, de ugyanakkor számottevő hátrány, hogy a gyártási költségek nagyságrendekkel ugranak meg, és emiatt sem kapkod minden chipgyártó a High-NA berendezésekért, a Hyper-NA-ról már nem is beszélve, ami nagyon sokáig nem is számított reális alternatívának az iparágon belül. Persze azzal, hogy láthatóan egyre drágábban is megveszi a piac a chipeket, a helyzet változott, így az ASML is bizakodó a következő évtized technológiáját tekintve.
